中国为什么有那么多“弯道超车”故事？再论EUV光刻机的战略代价

在优秀晶圆厂，28纳米以下的逻辑芯片制程，其所必要的EUV曝光数目随节点的迭代而渐渐增长，以是节点越优秀，EUV光刻机所需数目越多。以是，28纳米以下的高等逻辑芯片，其光刻装备的投资额度，将随着逻辑节点的代差，指数级增长。

好比，7纳米逻辑芯片晶圆厂的光刻机投资中：

1，干式DUV光刻机的投资比例是10%,；

2，浸没式DUV光刻机的投资比例约莫是50,；

3，数值孔径NA0.33的第一代EUV光刻机的比例是40%。

逻辑芯片晶圆厂不同芯片节点的光刻机必要投资比例

到了7纳米以下，优秀逻辑芯片所必要的EUV光刻机的投资比例不休增长：

1，5纳米节点的EUV光刻机比例到达60%；

2，3纳米节点的EUV光刻机比例到达70%；

3，2纳米节点以下的EUV光刻机比例到达80%。

固然，到了2纳米节点以下，有必要引入愈加昂贵的第二代高NA0.55 EUV光刻机，这意味着2纳米逻辑节点以下，晶圆厂的EUV光刻机投资总额进一步增长。

现在的顶尖芯片制造三强，台积电、三星、英特尔，经过长达20年的高等逻辑芯片的市场化的迭代提高，取得了多量的利润，进一步兴奋本钱一代又一代地投入优秀武艺的开发，从而构成一个良性的循环。

“弯道超车”党看不见这些，他们全体呼唤着“弯道超车”的“商业形式”，无非是支配国度科技投入政策，将一笔又一笔的千亿范围的投资投入到他们的“弯道超车”的游戏形式中去罢了。

中国古语有云~~~杀鸡取蛋，扬汤止沸，就是指得这个“弯道超车”呀。

我们要警惕迩来有一些MCN机构艺人胡编乱造，为芯片造假昭雪，并且放纵宣扬种种“弯道超车”、“美国芯片没人要了”、“美国半导体要失业了”。

这些“弯道超车”党的宣扬、乱来言论，有约莫招致我们国度大批投资化为乌有。

作为平凡人民，我们应该更多的观察、学习优秀科技的办理、构造形式，为国度出策划策，同时对国度科技提高起到更好的监督作用，而不是夸诞沸腾、胡编乱造，将中国的言论场变成了糜烂的保护色！