Rapidus吸收日本首台量产用EUV光刻机ASML NXE:3800E

IT之家 12 月 19 日消息，日本优秀逻辑半导体制造商 Rapidus 公布，其购入的首台 ASML TWINSCAN NXE:3800E 光刻机已于当地时间昨日在其北海道千岁市 IIM-1 晶圆厂完成交付并启动安装。这也是日本境内初次引入量产用 EUV 光刻装备。

Rapidus 首席实行官、日本当局代表、北海道及千岁市场合当局代表、ASML 高管、荷兰驻日本大使等干系人士列席了在北海道新千岁机场举行的怀念仪式。

NXE:3800E 是 ASML EXE 系列 0.33 (Low) NA EUV 光刻机的最新型号，能满意 Rapidus 首代量产工艺 2nm 的制造需求。该光刻机与 0.55 (High) NA EXE 平台共享局部组件，晶圆吞吐量较前款 NXE:3600D 提升 37.5%。

除中心的 EUV 光刻机外，Rapidus 还将在 IIM-1 晶圆厂安装一系列配套优秀半导体制造装备以及全主动质料处理体系，以完成 2nmz 制程 GAA（IT之家备注：全围绕栅极）布局半导体的消费。

Rapidus 再次确认 IIM-1 晶圆厂将于 2025 年 4 月启动试产，且该晶圆厂一切半导体制造装备均将接纳“单晶圆工艺”，Rapidus 将在该形式下构建名为 RUMS（快速和一致制造办事）的新型半导体代工形式。