薄膜电容(温州核芯智存科技申请铁电电容制备方法及其电容专利，能减少电容薄膜损伤)

温州核芯智存科技哀求铁电电容制备办法及其电容专利，能变小电容薄膜损伤

金融界2024年12月19日消息，国度知识产权局信息体现，温州核芯智存科技仅限公司哀求一项名为“一种铁电电容制备办法及其电容”的专利，公开号 CN 119136655 A，哀求日期为 2023 年 9 月。

专利择要体现，本创造公开了一种铁电电容制备办法及其电容，包含于铁电电容制备中，对堆积于晶圆外表的布局层接纳湿法刻蚀，使用刻蚀液粘度招致的液膜张力制止刻蚀液进入平面电容孔内，只刻蚀晶圆外表保存平面电容孔内膜层；所述堆积于晶圆外表的布局层为堆积于平面电容孔及晶圆外表的断绝层、下电极、高介电质料、上电极和板线。该铁电电容制备办法及其电容，经过接纳湿刻工艺交换干刻，除低落制造本钱外，还能变小电容薄膜损伤，延长制程时间提高听从；同时使用与顶层电极相似的金属钛质料举行板线毗连，兼并湿刻步调简化工序，制止了分外刻蚀步调。

本文源自金融界