上海积塔半导体申请SiC结势垒肖特基二极管及其制备方法专利,二极管导通电压低,漏电小,抗浪涌能力强
更新时间:2024-12-14 08:52:12 所在栏目: 生活常识点击量:
上海积塔半导体哀求SiC结势垒肖特基二极管及其制备办法专利,二极管导通电压低,泄电小,抗浪涌才能强
金融界2024年12月5日消息,国度知识产权局信息体现,上海积塔半导体仅限公司哀求一项名为“SiC结势垒肖特基二极管及其制备办法”的专利,公开号 CN 119069542 A,哀求日期为2024年8月。
专利择要体现,本创造提供了一种SiC结势垒肖特基二极管及其制备办法。该二极管包含第一导电典范的SiC衬底;第一导电典范的SiC外表层,位于第一外表;第二导电典范的阱区,从SiC外表层阔别SiC衬底的一面延伸进入SiC外表层;阱区包含多个第一阱区和第二阱区,第一阱区的宽度随伸入至SiC外表层的深度渐渐减小,第一阱区在SiC衬底上的垂直投影为圆形;SiC外表层包含结势垒区和终端区,终端区自结势垒区的落幕端阔别结势垒区的两侧延伸设置;第一阱区位于结势垒区,第二阱区位于所述终端区;介质层,掩盖终端区上;第一电极层,掩盖结势垒区上;第二电极层,位于SiC衬底的所述第二外表上本创造提供的二极管导通电压低,泄电小,抗浪涌才能强。
本文源自金融界
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